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日本依存脱却へ、SKハイニックスがフォトレジスト国産化に着手 ...
2025年12月7日、韓国メディア・電子新聞は、韓国の半導体大手SKハイニックスが、これまで日本企業に依存してきた先端半導体材料「EUV用フォトレジスト」の国産化に本格的に乗り出したと報じた。
ADEKAは鹿島化学品工場にMOR向けの新製造棟を建設する(出所:ADEKA)半導体の製造に欠かせないフォトレジスト(感光材)に約30年ぶりの新顔が加わりそうだ。金属酸化物レジスト(MOR)と呼ぶ新型レジストの供給が2026年に始まる見通しで、韓国Samsung Electronics(サムスン電子)などが2026〜27年に半導体の量産に導入する公算が高まった。次世代のEUV(極端紫外線)露光と組 ...
~3D-NANDフラッシュメモリや車載用・産業用半導体の増加により、需要が拡大~ 当社は、半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」製造設備の生産能力増強を決定いたしましたので、お知らせいたします。 1.本件の目的 「VPポリマー(ポリパラヒドロキシ ...
-デジタル分野における機能性材料の拡大を加速 - DIC株式会社(本社:東京都中央区、社長執行役員:猪野薫)は、カナダで半導体フォトレジストポリマーの製造・販売を営むPCAS Canada Inc.社(所在地:カナダ・ケベック州、以下「PCAS-C社」)の全株式を、PCAS S ...
ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂は、半導体製造工程において光リソグラフィ技術の核心を担う感光性高分子材料である。これらはそれぞれ、ArFエキシマレーザー(波長193nm)およびKrFエキシマレーザー(波長248nm)を光源とする露光プロセスに使用され ...
今回は前号で予定していた「開発支援」「製造装置」と「素材」のうち、掲載を見送った半導体の「素材」に関してみていきたいと思います。
11 日on MSN
世界シェア25%! 東京応化工業が半導体「EUVフォトレジスト」で ...
半導体製造ではシリコンウエハーの上に酸化膜を形成し、その上にフォトレジストと呼ばれる化学薬剤を塗る。そして、その上から回路の設計図であるマスクを通して光を照射する。すると、光が当たったところは、フォトレジストが化学変化を起こし、設計図がウエハーに焼き ...
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木原官房長官、韓国メディアの疑惑を全面否定 「フォトレジストの ...
ロイター通信によると、木原稔官房長官は3日、首相官邸で記者会見を開き、関連質問に対し「韓国メディアで報じられたようなフォトレジストに関する貿易管理の変更は行われていないと認識している」と答えたという。木原長官は個別の貿易管理対応については言及せず、詳 ...
2025年3月10日に、QYResearch株式会社(所在地:東京都中央区)は、「IC用ポジ型フォトレジスト―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2025~2031」の調査資料を発行しました。本報告書では、IC用ポジ型フォトレジスト市場に関する包括 ...
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