日本と中国の外交的対立がエスカレートする中、日本が非公式に半導体製造に必要な重要素材の輸出を制限したと報じられた。中国が自国民の日本への渡航自粛を勧告するなど、台湾有事に関する「高市発言」への報復措置に出たことに対抗し、中国の半導体産業に打撃を与えよ ...

ADEKAは鹿島化学品工場にMOR向けの新製造棟を建設する（出所:ADEKA）半導体の製造に欠かせないフォトレジスト（感光材）に約30年ぶりの新顔が加わりそうだ。金属酸化物レジスト（MOR）と呼ぶ新型レジストの供給が2026年に始まる見通しで、韓国Samsung Electronics（サムスン電子）などが2026〜27年に半導体の量産に導入する公算が高まった。次世代のEUV（極端紫外線）露光と組 ...

2025年12月1日、韓国メディア・韓国経済は「日本が中国向けのフォトレジスト（感光剤）の出荷を事実上、中断したことが分かり、中国半導体メーカー、SMIC（中芯国際）とCXMT（長鑫存儲技術）の生産に支障が生じる可能性が浮上した」と伝えた。

半導体製造ではシリコンウエハーの上に酸化膜を形成し、その上にフォトレジストと呼ばれる化学薬剤を塗る。そして、その上から回路の設計図であるマスクを通して光を照射する。すると、光が当たったところは、フォトレジストが化学変化を起こし、設計図がウエハーに焼き ...

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PFAS（有機フッ素化合物）が、半導体業界を揺るがしている。同物質は半導体製造の露光工程で使われるフォトレジスト（感光剤）などに含まれるが、人体や環境への被害が明らかになりつつあるからだ。世界的な半導体研究機関であるベルギーimec（アイ ...

半導体を製造するうえで必ず必要となる「フォトマスク」。その役割は、フォトマスク上に描かれた回路パターンをリソグラフィプロセスにおいてウェハに転写するというもので、成熟プロセスであっても先端プロセスでも、大きな意味では利用方法に違い ...