ADEKAは鹿島化学品工場にMOR向けの新製造棟を建設する（出所:ADEKA）半導体の製造に欠かせないフォトレジスト（感光材）に約30年ぶりの新顔が加わりそうだ。金属酸化物レジスト（MOR）と呼ぶ新型レジストの供給が2026年に始まる見通しで、韓国Samsung Electronics（サムスン電子）などが2026〜27年に半導体の量産に導入する公算が高まった。次世代のEUV（極端紫外線）露光と組 ...

木原稔官房長官は3日の記者会見で、日本が半導体の回路形成に使うフォトレジスト（感光材）の対中輸出を停止したとする韓国メディアの報道にふれた。「日本の貿易管理の状況で申し上げると、フォトレジストに関する変更は行っていないと聞いている」と述べた。

Survey Reports LLCは、2025年5月に「フォトレジスト市場セグメンテーション：用途別（半導体・IC、LCD）、補助剤タイプ別（反射防止コーティング、除去剤、現像剤）、フォトレジストタイプ別（ArF浸漬、ArFドライフィルム、KrF、G線・I線）」に関する調査報告書 ...

グローバル市場調査レポート出版社であるGlobaI Info Researchがリリースされました「フォトレジスト洗浄剤の世界市場2025年：メーカー、地域別、タイプ、用途別、2031年までの予測」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるフォトレジスト洗浄剤の ...

今回は前号で予定していた「開発支援」「製造装置」と「素材」のうち、掲載を見送った半導体の「素材」に関してみていきたいと思います。

2025年3月10日に、QYResearch株式会社（所在地：東京都中央区）は、「IC用ポジ型フォトレジスト―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2025～2031」の調査資料を発行しました。本報告書では、IC用ポジ型フォトレジスト市場に関する包括 ...

“日本が中国向けの「フォトレジスト」の出荷を事実上中断した”と韓国メディアが報じていることについて、3日の木原稔官房長官の記者会見で質問が出た。「フォトレジスト」は半導体の生産に使う材料。　記者が「半導体の回路形成などに使われるフォトレジ… ...

半導体製造ではシリコンウエハーの上に酸化膜を形成し、その上にフォトレジストと呼ばれる化学薬剤を塗る。そして、その上から回路の設計図であるマスクを通して光を照射する。すると、光が当たったところは、フォトレジストが化学変化を起こし、設計図がウエハーに焼き ...

フォトレジストとは特定の光を受けると性質が変わる液状の化学薬剤だ。半導体の製造では、半導体の基板となるシリコンウエハーの上に酸化膜・窒化膜を形成したあとにフォトレジストを塗る。その後、光線で回路図を焼き付ける。